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In stock
适用范围：
金属、非金属材料的超平面精密研磨、抛光。
特点：
1、粘有被磨、抛材料的载料块，由摆动支撑架上的减速电机（无级调速）驱动载料块，使其不论何种原因，都能主动地旋转起来。避免了因载料块不旋转而导致被磨、抛材料磨、抛偏的问题，即促使"TTV"——片子整体厚度变化越趋变小；
2、粘有被磨、抛材料的载料块支撑架，由往复摆动装置可实现5度角的左右摆动（其摆动频率无级可调），并可摆出（或不摆
Group: Electromachines polishing
In stock
适用范围：
金属非金属材料切割、研磨、抛光的初始、中间、结束过程中的在线检测。
特点：
用双零级别的大理石作为平台，用千分表作为测量检具，对被加工材料用对称等分作为检测点，用加权平均法或对应点值比较法作为检测结果，或用"TTV"方法检测，都是十分理想的量具。
技术指标：
平台精度：00级
测厚范围：0～10 毫米
测量精度：≤1微米
千分表精度：≤1微米
外型尺寸： 200×150×330（毫米）
重量： 2.5公斤
Group: Thickness gauge
In stock
适用范围：
适用于循环输送冷却液、研磨液、抛光液等。
特 点：
采用泵输出液分流至盛液桶内，靠泵输出的分流液的冲击实现搅拌的
功能,它不损伤液体内的物质，比如磨料等。而机械（叶轮式）搅拌则会
粉碎磨料的颗粒，导致研磨效果降低。
技术指标：
扬程：3 米
流量：12升/分
容积：4升
功率： 25 瓦
重量：4公斤
体积：312×214×214（毫米）
电压：交流220伏
Group: Mixers dynamic
In stock
适用范围：
金属、非金属材料的超平面精密研磨、抛光。
特点：
1、粘有被磨、抛材料的载料块，由摆动支撑架上的减速电机（无级调速）驱动载料块，使其不论何种原因，都能主动地旋转起来。避免了因载料块不旋转而导致被磨、抛材料磨、抛偏的问题，即促使"TTV"——片子整体厚度变化越趋变小；
2、粘有被磨、抛材料的载料块支撑架，由往复摆动装置可实现5度角的左右摆动（其摆动频率无级可调），并可摆出（或不摆
Group: Electromachines polishing
In stock
适用范围：
金属、非金属材料的精密切割。
特点：
1、可使用两种规格即外径150毫米（6英寸）、100毫米（4英寸）的金刚石外圆锯片；
2、主轴水平、垂直跳动接近于0；
3、主轴靠切割区侧的轴承设有防水密封装置；
4、水盒上装有防水板；
5、采用同步带轮传输动力，主轴不会丢转；
6、主轴电机采用脉宽调制电路，保证电源恒功率输出，直流电机转动平稳、无爬行、功率大；
7、LED显示锯片转速；
8、切割臂上装有水平36
Group: Jib machines
In stock
该机设计巧妙，总成摆布合理，操作简便，被受理三项国家发明专利（专利号200410050285.6、200510046899.1、200510047821.1）。
适用范围：
金属、非金属贵重或超硬材料的精密切割。特别是对人工晶体、陶瓷以及半导体材料的精密切割。
特点：
1、台式小型化，最大切割直径150毫米；
2、X轴移动平台由双直线导轨支撑，精密丝杠/步进电机驱动，单板机控制，进给速度可无级调整在2.5微米～ 18毫米/分之间，以及其它切割数据管理
3、
Group: Jib machines
In stock
适用范围：
金属、非金属材料的精密切割或划片。
特点：
1、台式小型化；
2、切割尺寸大；
3、移动平台精度高。
4、单板机控制步进电机驱动X轴直线导轨移动平台，实现切割长度、切割速度、回车速度等切割数据管理。
5、单板机控制步进电机驱动Y轴直线导轨移动平台，调整切割宽度，最大切割宽度可实现100毫米。
6、单板机控制步进电机驱动Z轴直线导轨移动平台，定位主轴上安装的直径100毫米、150毫米的金刚石外圆
Group: Jib machines
In stock
特点：
该
晶体生长炉采用先进的驱动、传动技术及配套装置；采用特殊工艺及材料制作的密封装置；采用可靠的水冷系统装置；使籽晶杆运转平稳，无爬行和振动。同时采用
了高精度可编程的炉温控制装置，实现了炉温自动控制。并设有手动快速升降装置，使用方便，是生长高熔点氧化物人工晶体的理想设备。
技术参数：
·最高熔炼温度：2100℃
·籽晶杆升速：0.1～10mm/h
·籽晶杆转速：1～75r/min
·籽晶杆行程：400mm(或按
Group: Furnaces
